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专利名称：一种刻蚀设备专利类型：实用新型专利
发明人：罗林,盖晨光,刘世振,刘家桦,叶日铨申请号：CN201821267825.X申请日：20180803公开号：CN208433366U公开日：20190125
摘要：本实用新型提供一种刻蚀设备，包括：石英管，反应气体在所述石英管中产生等离子体；聚四氟乙烯管，与所述石英管通过隔离阀连接；反应腔，与所述聚四氟乙烯管相连接，所述等离子体自所述石英管、隔离阀及聚四氟乙烯管通入所述反应腔中。通过位于石英管与聚四氟乙烯管之间的隔离阀，实现在更换石英管时，减少聚四氟乙烯管占用的空间，可减少破真空空间，从而减少破真空所需的时间，进而减少PM时间；同时可降低在破真空后，聚四氟乙烯管中的颗粒风险，避免将颗粒带进反应腔中，从而避免对待刻蚀晶圆造成缺陷，提高产品质量。
申请人：德淮半导体有限公司
地址：223300 江苏省淮安市淮阴区长江东路599号
国籍：CN
代理机构：上海光华专利事务所(普通合伙)
代理人：余明伟
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